百级洁净室-洁净室-清阳净化系统工程电话

　　空气净化在人类生活中重要作用

　　人们每天平均有70%以上的时间在室内渡过。随着人们生产和生活方式的改变，洁净室报价，更多的工作和体育***活动都可在室内进行，购物也不必每天上街，合适的室内气候使人们不必经常到户外去调节热效应，这样，人们的室内活动时间就会更多，甚至高达90%以上。而老、幼、病、残等弱势群体、机体抵抗力较低、户外活动机会更少，因此，室内空气质量的好坏与人们的关系尤为重要。

净化技术的设备发展

　　对于半导体设备来讲，净化工程技术在微电子技术中起着十分重要的作用。微电子技术的核心是集成电路，而集成电路的生产对其工艺环境和工艺流程中的净化技术和设备提出了严格的要求。我国“九五”期间大力发展以微电子为***的信息产业。净化工程技术水平在某种意义上已成为衡量一个***和地区科学技术水平和工业水平的一个重要标志。

PCB厂内层无尘室里的湿度洁净是多少

相对湿度是洁净室运作过程中一个常用的环境控制条件。半导体洁净室中的典型的相对湿度的目标值大约控制在30至50%的范围内，允许误差在±1%的狭窄的范围内，例如光刻区──或者在远紫外线处理（DUV）区甚至更小──而在其他地方则可以放松到±5%的范围内。

这些年里，在这些规定范围中保持处理空气过程，使我们必需承担资金和营运费用。但是为什么值得花费这么多钱用在洁净室中控制相对湿度呢？

道理很简单！因为相对湿度有一系列可能使洁净室总体表现下降的因素，其中包括：

***生长；

工作人员感到室温舒适的范围；

出现静电荷；

金属腐蚀；

水汽冷凝；

光刻的退化；

吸水性。

***和其他生物污染（霉菌，病毒，***，螨虫）在相对湿度超过60%的环境中可以活跃地繁殖。一些菌群在相对湿度超过30%时就可以增长。在相对湿度处于40%至60%的范围之间时，可以使***的影响以及呼吸道***降至***1、低。

相对湿度在40%至60%的范围同样也是人类感觉舒适的适度范围。湿度过高会使人觉得气闷，而湿度低于30%则会让人感觉干燥，皮肤皲裂，呼吸道不适以及情感上的不快。

高湿度实际上减小了洁净室表面的静电荷积累──这是人们希望的结果。较低的湿度比较适合电荷的积累并成为潜在的具有***性的静电释放源。当相对湿度超过 50%时，静电荷开始迅速消散，但是当相对湿度小于30%时，它们可以在绝缘体或者未接地的表面上持续存在很长一段时间。

相对湿度在35%到40%之间可以作为一个令人满意的折中，半导体洁净室一般都使用额外的控制装置以限制静电荷的积累。

很多化学反应的速度，包括腐蚀过程，将随着相对湿度的***而加快。所有暴露在洁净室周围空气中的表面都很快地被覆盖上至少一层单分子层的水。当这些表面是由可以与水反应的薄金属涂层组成时，高湿度可以使反应加速。幸运的是，一些金属，例如铝，可以与水形成一层保护型的氧化物，洁净室，并阻止进一步的氧化反应；但另一种情况是，例如氧化铜，是不具有保护能力的，因此，在高湿度的环境中，铜制表面更容易受到腐蚀。

在相对湿度较高的环境中，浓缩水形的毛细管力在颗粒和表面之间形成了连接键，可以增加颗粒与硅质表面的黏附力。这种效应──凯尔文浓缩──当相对湿度小于50%时并不重要，但当相对湿度在70%左右时，就成为颗粒之间黏附的主要力量。

到目前为止，在半导体洁净室中***迫切需要适度控制的是光刻胶的敏***。由于光刻胶对相对湿度极为敏感的特性，它对相对湿度的控制范围的要求是***严格的。

实际上，相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及精1、确的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下，光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然，改变粘性，就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。参考两个城市，无菌洁净室，一个试验证实，相对湿度的3%的变异将使保护厚度改变59.2 A 。

此外，在高的相对湿度环境下，百级洁净室，由于水分的吸收，使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可以受到较高的相对湿度的***影响；较低的相对湿度（约30%）使光刻胶附着更加容易，甚至不需要聚合改性剂，如六甲基二硅氮烷（HMDS）。

在半导体洁净室中控制相对湿度不是随意的。但是，随着时间的变化，***、1好回顾一下常见的被普遍接受的实践的原因和基础。

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